GB/T 6900-2016 鋁硅系耐火材料化學分析方法
- 發表時間:2022-12-06
- 來源:共立消防
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1 范圍
本標準規定了鋁硅系耐火材料化學分析方法。
本標準適用于鋁硅系耐火材料中灼燒減量、二氧化硅、氧化鋁、氧化鐵、二氧化鈦、氧化鈣、氧化鎂、氧化鉀、氧化鈉、一氧化錳、五氧化二磷、氧化鋯、三氧化二鉻含量的測定。測定范圍見表1。
表1 測定范圍
分析項目 | 含量范圍/% | 分析項目 | 含量范圍/% |
LOI | ≤30 | K2O | ≤4 |
SiO2 | ≤95 | Na2O | ≤8 |
Al2O3 | 10~97 | MnO | ≤5 |
Fe2O3 | ≤15 | P2O | ≤10 |
TiO2 | ≤10 | ZrO2 | ≤5 |
CaO | ≤20 | Cr2O3 | ≤3 |
MgO | ≤2 |
2 規范性引用文件
下列文件對于本文件的應用是必不可少的。凡是注日期的引用文件,僅注日期的版本適用于本文件。凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改單)適用于本文件。
GB/T 4984 含鋯耐火材料化學分析方法
GB/T 7728 冶金產品化學分析 火焰原子吸收光譜法通則
GB/T 8170 數值修約規則與極限數值的表示和判定
GB/T 10325 定形耐火制品驗收抽樣檢驗規則
GB/T 12805 實驗室玻璃儀器 滴定管
GB/T 12806 實驗室玻璃儀器 單標線容量瓶
GB/T 12808 實驗室玻璃儀器 單標線吸量管
GB/T 17617 耐火原料和不定形耐火材料 取樣
GB/T 32179 耐火材料化學分析 濕法、原子吸收光譜法(AAS)和電感耦合等離子體原子發射光譜法(ICP-AES)的一般要求
3 儀器和設備
3.1 天平(感量0.1mg)。
3.2 鉑坩堝或瓷坩堝(30mL)。
3.3 自動控溫干燥箱。
3.4 高溫爐:最高使用溫度≥1100℃,且能自動控溫的箱式電爐。
3.5 分光光度計。
3.6 火焰光度計。
3.7 電感耦合等離子發射光譜儀。
3.8 吸量管:GB/T 12808A級。
3.9 滴定管:GB/T 12805A級。
3.10 容量瓶:GB/T 12806A級。
3.11 原子吸收光譜儀:備有空氣-乙炔燃燒器,鈣、鎂、鉀、鈉、錳空心陰極燈??諝夂鸵胰矚怏w要足夠純凈(不含水、油、鈣、鎂、鉀、鈉、錳),以提供穩定清澈的貧燃火焰。其“精密度的最低要求”“特征濃度”“檢出限”和“標準曲線的線性(彎曲程度)”應符合GB/T 7728的規定。
4 試樣制備
4.1 采樣
定形耐火材料按照GB/T 10325,不定形和耐火原料按照GB/T 17617采集實驗室樣品。
4.2 制備
4.2.1 將實驗室樣品破碎至6.7mm以下,按四分法縮分至約100g。
4.2.2 當合同另有取樣約定或由于產品形式的限制,無法取得≥100g的實驗室樣品時,可以例外。
4.2.3 將縮分后的樣品粉碎至0.5mm以下,繼續縮分,并加工成粒度小于0.090mm的試樣。
4.2.4 試樣分析前應在105℃~110℃烘2h,置于干燥器中冷至室溫。
5 通則
5.1 測定次數
在重復性條件下測定2次。
5.2 空白試驗
在重復性條件下做空白試驗。
5.3 結果表述
所得結果應按GB/T 8170修約。當含量≥0.10%時保留兩位小數;當含量<0.10%時結果保留兩位有效數字;如果委托方供貨合同或有關標準另有要求時,可按要求的位數修約。
5.4 分析結果的采用
當所得試樣的兩個有效分析值之差不大于表2所規定的允許差時,以其算術平均值作為最終分析結果;否則,應按附錄A的規定進行追加分析和數據處理。
5.5 質量保證和控制
5.5.1 標準曲線應定期(不超過3個月)用標準物質校準一次。如果儀器維修或更換部件(如燈泡等),應重新繪制標準曲線,并用同類型標準物質校準。當標準物質的分析值與標準值之差大于表2所規定允許差的0.7倍時,應重新繪制標準曲線。
5.5.2 一般情況下,標準滴定溶液的濃度應每2個月重新標定一次;如果2個月內溫度變化超過10℃時,應及時標定一次。重新標定后,應用標準物質進行驗證,當標準物質的分析值與標準值之差不大于表2所規定允許差的0.7倍時,則標定結果有效,否則無效。
仲裁試驗時,應隨同試樣分析同類型標準物質。當標準物質的分析值與標準值之差不大于表2所規定允許差的0.7倍時,則試樣分析值有效,否則無效。
6 試驗報告
試驗報告應至少包括以下內容:
——委托單位;
——試樣名稱;
——分析結果;
——使用標準(GB/T 6900-2016);
——與規定的分析步驟的差異(如有必要);
——在試驗中觀察到的異常現象(如有必要);
——試驗日期。
表2 分析值的允許差
含量范圍/% | 各元素允許差/% | ||||||||||
LOI | SiO2 | Al2O3 | Fe2O3 | TiO2 | CaO | MgO | K2O | Na2O | P2O3 | MnO,ZrO2,Cr2O3 | |
≤0.1 | 0.05 | 0.05 | - | 0.03 | 0.01 | 0.02 | 0.02 | 0.02 | 0.02 | 0.02 | 0.01 |
>0.1~≤0.5 | - | 0.10 | 0.02 | 0.05 | 0.05 | 0.06 | 0.06 | 0.04 | 0.02 | ||
>0.5~≤1 | 0.10 | 0.10 | - | 0.10 | 0.10 | 0.10 | 0.10 | 0.10 | 0.10 | 0.05 | |
>1~≤2 | - | 0.20 | 0.15 | 0.15 | 0.20 | 0.20 | 0.15 | 0.10 | |||
>2~≤5 | 0.20 | 0.20 | - | 0.20 | 0.20 | - | 0.30 | 0.30 | 0.20 | 0.20 | |
>5~≤15 | 0.30 | 0.40 | 0.30 | 0.30 | 0.30 | - | - | 0.30 | - | ||
>15~≤30 | 0.30 | 0.50 | - | - | - | - | - | - | |||
>30~≤60 | - | 0.50 | 0.60 | - | - | - | - | - | - | - | |
>60 | - | 0.60 | 0.70 | - | - | - | - | - | - | - | |
對于微量成分,當分析值的平均值小于允許差的2倍時,其允許差為該分析值的1/2。 |
7 灼燒減量的測定
按照GB/T 32179 中灼燒減量方法進行測定。
8 二氧化硅的測定
8.1 鉬藍光度法[ω(SiO2)≤5%]
8.1.1 原理
試樣用碳酸鈉-硼酸混合熔劑熔融,稀鹽酸浸取。在約0.2 mol/L鹽酸介質中,單硅酸與鉬酸銨形成硅鉬雜多酸,加入乙二酸-硫酸混合酸,消除磷、砷的干擾,然后用硫酸亞鐵銨將其還原為硅鉬藍,于分光光度計波長810nm或690nm處,測其吸光度。
8.1.2 試劑
8.1.2.1 混合熔劑:取2份無水碳酸鈉與1份硼酸研細,混勻。
8.1.2.2 鹽酸(1+5)。
8.1.2.3 鉬酸銨[(NH4)6MO7O24·4H2O]溶液(50g/L):過濾后使用。
8.1.2.4 乙二酸-硫酸混合酸:取15g乙二酸(H2C2O4·2H2O)溶于250mL硫酸(1+8)中,用水稀釋至1000mL,混勻。
8.1.2.5 硫酸亞鐵銨[FeSO4·(NH4)2SO4·6H2O]溶液(40g/L):取4g硫酸亞鐵銨溶于水,加5mL硫酸(1+1),用水稀釋至100mL,混勻,過濾后使用,用時配制。
8.1.2.6 二氧化硅標準貯存溶液(含SiO2 0.5mg/mL):
稱取0.1000g預先在1000℃灼燒2h并冷至室溫的二氧化硅(99.99%)于鉑坩堝中,加入2g~3g無水碳酸鈉,蓋上坩堝蓋并稍留縫隙,置于1000℃高溫爐中熔融5min~10min,取出,冷卻。置于盛有100mL沸水的聚四氟乙烯燒杯中,低溫加熱浸取熔塊至溶液清亮,用熱水洗出坩堝及蓋,冷至室溫。移入200mL容量瓶中,用水稀釋至刻度,搖勻,貯存于塑料瓶中。
8.1.2.7 二氧化硅標準溶液(含SiO250μg/mL):移取10.00mL二氧化硅標準貯存溶液(8.1.2.6)于100mL容量瓶中,用水稀釋至刻度,搖勻,用時配制。
8.1.2.8 二氧化硅標準溶液(含SiO25μg/mL):移取10.00mL二氧化硅標準溶液(8.1.2.7)于100mL容量瓶中,用水稀釋至刻度,搖勻,用時配制。
8.1.3 試料量
稱取約0.10g試料,精確至0.1mg。
8.1.4 測定
8.1.4.1 將試料置于盛有4g混合熔劑(8.1.2.1)的鉑坩堝中,混勻,再覆蓋1g混合熔劑,蓋上坩堝蓋并稍留縫隙,置于800℃~900℃高溫爐中,升溫至1000℃~1100℃熔融,待試樣完全熔解。取出,旋轉坩堝,使熔融物均勻附著于坩堝內壁,冷卻。
8.1.4.2 用濾紙擦凈坩堝外壁,放入盛有60mL鹽酸(8.1.2.2)的200mL燒杯中,低溫加熱浸出熔融物至溶液清亮,用水洗出坩堝及蓋,冷卻至室溫,移入100mL容量瓶中,用水稀釋至刻度,搖勻。
8.1.4.3 移取10.00mL試液(8.1.4.2)于100mL容量瓶中,加10mL水。
8.1.4.4 加入5mL鉬酸銨溶液(8.1.2.3),搖勻,于室溫下放置20min(室溫低于15℃則在約30℃的溫水浴中進行)。
8.1.4.5 加入30mL乙二酸-硫酸混合酸(8.1.2.4),搖勻,放置0.5min~2min,加入5mL硫酸亞鐵銨溶液(8.1.2.5),用水稀釋至刻度,搖勻。
8.1.4.6 用合適吸收皿(見表3),于分光光度計810nm或690nm處,以空白試驗溶液為參比測量其吸光度。
表3 按二氧化硅的含量選擇吸收皿
ω(SiO2)/% | 0.1~0.5 | 0.5~5 |
吸收皿/mm | 30 | 10 |
標準曲線 | 8.1.5.1 | 8.1.5.2 |
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